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        首頁>凈化工程>精密電子 / 精密激光


            半導體組件空間單位都是以微米計算,因此微塵顆粒沾附在制作半導體組件的晶圓上,便有可能影響到其上精密導線布局的樣式,造成短路或斷路的嚴重后果。所有半導體制程設備都必須安置在隔絕粉塵進入的密閉空間中,這就是半導體車間凈化的來由。


        一、半導體車間實景圖

        尖端半導體實景圖

        二、凈化原理

            在凈化工程中,含有雜質的液化氣體通過第一吸收裝置以去除其液相中的雜質,從而產生初次凈化流體;使這初次凈化流體通過蒸發裝置以去除其中的雜質,從而產生二次凈化氣體;和使二次凈化氣體通過第二吸收裝置以去除其汽相中的雜質,從而達到凈化效果。


        三、技術要求及功能特點


        技術要求:

        1. 對生產環境清潔度要求極高;

        2. 選擇不易產生靜電吸附的材質為主;

        3. 恒溫恒濕的系統要求使用;

        4.  所用的原材料需要符合工藝要求;

          功能特點:

        5. 清潔度:半導體工藝對操作室清潔度要求極高,通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣,因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。

        6. 特殊性:所有人或事情進出尖端半導體,必須穿配套防塵服,人或事物都要經過風淋室的吹淋已將表面的灰塵清洗掉;

        7. 防靜電:在材質選擇方面,應該選擇不易產生靜電吸附的材質;

        8. 嚴謹性:所有經凈化設備的空氣流動方向均由上往下為主,因此,尖端半導體室內空間設計或機臺擺放應避免突兀,使塵埃細菌等在潔凈無塵車間內回旋停滯的機會與時間減至最低程度。


        四、應用場景

            半導體車間凈化裝修現在已經廣泛運用于制藥工業、細菌學、生物學、潔凈實驗室等行業中,隨著半導體凈化裝修日益地朝著高集成度發展,這就要求各元件尺寸愈來愈微細,而硅片的面積向大型化方向發展,在一定程度上促進的我國生物工程的發展。


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